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发布时间:2020-08-13 09:32:20
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光刻胶是半导体工艺中核心的材料,直接决定芯片制程,国内光刻胶产业和国外***产品相差三四代。未来我国大力发展芯片事业,如果在光刻胶环节被国外企业“掐脖子”,那么花费近千亿的半导体产业***都会受到极大的阻碍。与原铝生产相比,废铝再生可节省大量水电等能源,降低生产成本,减轻对环境的污染,因此废铝再生是绿色循环经济发展的重要体现。所以半导体产业的发展离不开上游材料的配到,尤其是光刻胶这种关键材料,技术一定要自主研发才会不受制于人。
《***集成电路产业发展推进纲要》,提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备,开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”;锌合金压铸生产有5%的金属损耗,另外还产生4%的熔渣,熔渣主要送锌冶炼环节制造锌锭,是压铸锌合金再生锌的主要原料来源。******支持的高新技术领域(2015)中提到“高分辨率光刻胶及配套***作为精细***重要组成部分,是***发展的新材料技术”;光刻技术(包括光刻胶)是《中国制造2025》***领域。
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铜具有许多可贵的物理化学特性。柱状晶***对铸锭的性能影响很大,在柱状晶与等轴晶交界处往往存在低熔点共晶***及夹杂物、气孔和疏松,还可能存在晶间裂纹,是铸锭脆弱的地方,当铸锭进行压力加工时,易于沿此处开裂。主要的一点是其电导率远高于其他基础金属及铁,只有银超过它。同样,其热导率亦大大超过除银之外的其他金属。 通常铜具有很强的耐腐蚀性,几千年来其在建筑和雕塑上的应用足以证明这一点。铜在空气中暴露一段时间,经过氧化,表面会形成淡绿色铜膜,一旦薄膜形成,对内部金属将起到性保护作用。铜具有抗有机酸及碱(氨水除外)的特性,因此可以埋入地下或浸入水中而不受腐蚀。
黄铜的特性简单介绍:黄铜以锌为主要合金元素的铜基合金,因常呈***而得名。目前***铜矿主要分布在南美洲的智利和秘鲁,北美洲的墨西哥、美国和加拿大,亚洲的中国、印尼和哈萨克斯坦,欧洲的波兰和俄罗斯,大洋洲的澳大利亚,以及非洲的赞比亚等地区。黄铜色泽美观,有良好的工艺和力学性能,导电性和导热性较高,在大气、淡水和海水中耐腐蚀,易切削和抛光,焊接性好且价格便宜。常用于制作导电、导热元件,耐蚀结构件,弹性元件,日用五金及装饰材料等,用途广泛。
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